移相干涉测量系统及测量方法
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摘要

一种移相干涉测量系统,包括光源单元、参考反射镜、第一分束镜、扩束镜、移相器、光电探测器;光源单元发出不同波长的光束,光束经扩束镜扩束后入射至第一分束镜,一部分被反射作为参考光束,另一部分被透射作为测量光束,参考光束入射至参考反射镜,经参考反射镜反射至光电探测器,参考反射镜与移相器固定连接,移相器控制参考光束进行相位调制;测量光束入射至待测物,经待测物反射回第一分束镜,经第一分束镜反射至光电探测器,且与参考光束发生干涉。本发明解决了单波长干涉测量方法只能测得0到2π范围内的相位值。解决了现有干涉测量系统测量距离被极大限制住,只能在λ/2范围内,实现精准测量的技术问题。

基本信息
专利标题 :
移相干涉测量系统及测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113587844A
申请号 :
CN202110850529.2
公开(公告)日 :
2021-11-02
申请日 :
2021-07-27
授权号 :
CN113587844B
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
王建立王之一糜小涛杨永强明名张玉良陈宝刚陈琦
申请人 :
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 :
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
代理机构 :
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
高一明
优先权 :
CN202110850529.2
主分类号 :
G01B11/24
IPC分类号 :
G01B11/24  G01B9/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-05-27 :
授权
2021-11-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/24
申请日 : 20210727
2021-11-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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