宽光谱干涉显微测量方法、装置、电子设备及介质
公开
摘要
本发明提供一种宽光谱干涉显微测量方法、装置、电子设备及介质，该宽光谱干涉显微测量方法包括：获取待测样品的干涉图；确定干涉图的调制度，通过调制度标识干涉图的第一区域，第一区域用于表征符合设定阈值的相位展开区域；对第一区域执行相位展开，得到干涉图多个焦面的真实相位图；对多个焦面的真实相位图相位拼接，得到干涉图的相位分布；根据相位分布确定待测样品的表面高度分布。本发明的有益效果为：以干涉条纹调制度量化条纹质量，以相位展开方法获得在设定区域的样品高度分布；将不同焦面位置获取的样品高度进行拼接，可获得扩展量程的高精度形貌测量结果，适用用于高精度、大量程宽光谱干涉显微测量。
基本信息
专利标题 ：
宽光谱干涉显微测量方法、装置、电子设备及介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114608472A
申请号 ：
CN202210160959.6
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-02-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张为国孙艳林熊欣邓晓洲杜春雷
申请人 ：
珠海迈时光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市香洲区珠海大道4333号7栋1层
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张志辉
优先权 ：
CN202210160959.6
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24 G01B11/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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