阿达玛变换干涉光谱成像设备

专利权的终止

摘要

一种阿达玛变换干涉光谱成像设备，包括沿光路设置的阿达玛模板，把目标成像于有n个码元的阿达玛模板表面上的前置光学成像系统，在阿达玛模板垂直于光轴的方向上将其剪切成两个虚阿达玛模板的横向剪切干涉仪，探测器以及与探测器连接的计算机系统，还包括紧贴于阿达玛模板设置的光阑；设置于横向剪切干涉仪与探测器之间的傅氏透镜和柱面镜，阿达玛模板位于傅氏透镜的前焦面，探测器位于傅氏透镜和柱面镜的后焦面。本实用新型不受阿达玛模板尺寸限制，形成系统结构简单。

基本信息

专利标题：

阿达玛变换干涉光谱成像设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820131495.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-08-21

授权号：

CN201242471Y

授权日：

2009-05-20

发明人：

周锦松相里斌

申请人：

中国科学院西安光学精密机械研究所

申请人地址：

710119陕西省西安市高新区新型工业园区信息大道17号

代理机构：

西安智邦专利商标代理有限公司

代理人：

康凯

优先权：

CN200820131495.1

主分类号：

G01J3/45

IPC分类号：

G01J3/45