基于双谱段叠层干涉的高光谱成像装置
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摘要
本实用新型涉及一种光谱成像装置，特别涉及一种基于双谱段叠层干涉的高光谱成像装置，解决了现有基于静态干涉分光原理的高光谱成像装置在宽波段探测时，不同谱段间会引入明显波长分辨率差异的问题。该装置特殊在于：包括沿光路依次设置的前置成像物镜、光阑、准直物镜、双谱段叠层干涉模块、液晶偏振开关、后置成像物镜及面阵探测器；双谱段叠层干涉模块包括偏振分光棱镜BS、设在偏振分光棱镜BS反射光路的短波剪切器及设在偏振分光棱镜BS透射光路的长波剪切器；液晶偏振开关包括沿光路依次设置的铁电液晶FLC和线偏振器P。在光谱通道数量不变的情况下，本实用新型不但可以提升长波光谱精细程度，而且可以提升短波信噪比，进而提高光谱复原精度。
基本信息
专利标题 ：
基于双谱段叠层干涉的高光谱成像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922028138.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-21
授权号 ：
CN211602927U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
柏财勋范文慧畅晨光李立波胡炳樑冯玉涛
申请人 ：
中国科学院西安光学精密机械研究所
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号
代理机构 ：
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 ：
王少文
优先权 ：
CN201922028138.3
主分类号 ：
G01N21/45
IPC分类号 ：
G01N21/45 G01J3/45
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率；影响相位的性质，例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法，利用纹影方法
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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