一种大范围平面元件白光干涉快速测量方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种大范围平面元件白光干涉快速测量方法,包括如下步骤:S1、利用粗对焦步骤确定白光干涉传感器的聚焦高度;S2、选取包含聚焦高度在内的采图区间;S3、在采图区间内依据精细采集步骤采集平面元件上至少四个不同位置处的初始条纹坐标;S4、依据初始条纹坐标拟合待测平面元件的位姿,进行高度补偿得到待测平面元件测量位姿;S5、根据待测平面元件测量位姿确定实际采图区间。本发明采用粗对焦步骤和精细采集步骤快速确定初始条纹坐标,并通过采用平面位姿标定来确定待测平面元件的整体位姿,根据待测平面元件的整体位姿可以快速准确的确定实际采图区间,大大提高了针对测量面积大的大范围平面元件的测量准确度和测量效率。

基本信息
专利标题 :
一种大范围平面元件白光干涉快速测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114485464A
申请号 :
CN202210079883.4
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张效栋焦凡苇
申请人 :
天津大学
申请人地址 :
天津市南开区卫津路92号
代理机构 :
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 :
周庆路
优先权 :
CN202210079883.4
主分类号 :
G01B11/24
IPC分类号 :
G01B11/24  G06T7/60  G06T7/70  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/24
申请日 : 20220124
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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