测量系统以及测量方法
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摘要

图像处理控制器使用第一图像、第二图像及第三图像中的至少一者,来输出表示对象物的三维形状的测量结果,所述第一图像是在来自第一测量头的投光部的测量光被投影至对象物的状态下,由第一测量头的拍摄部拍摄对象物所得的图像,所述第二图像是在来自第一测量头的投光部的测量光被投影至对象物的状态下,由第二测量头的拍摄部拍摄对象物所得的图像,所述第三图像是在来自第二测量头的投光部的测量光被投影至对象物的状态下,由第一测量头的拍摄部拍摄对象物所得的图像。

基本信息
专利标题 :
测量系统以及测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112105888A
申请号 :
CN201980030286.9
公开(公告)日 :
2020-12-18
申请日 :
2019-05-24
授权号 :
CN112105888B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
有吉智规饭田豊男
申请人 :
欧姆龙株式会社
申请人地址 :
日本京都府京都市下京区盐小路通堀川东入南不动堂町801番地
代理机构 :
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 :
杨文娟
优先权 :
CN201980030286.9
主分类号 :
G01B11/25
IPC分类号 :
G01B11/25  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
G01B11/25
通过在物体上投影一个图形,例如莫尔条纹
法律状态
2022-04-15 :
授权
2021-03-02 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/25
申请日 : 20190524
2020-12-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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