一种大面积纳米盘的制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明提出一种大面积纳米盘的制备方法,包括:配置聚苯乙烯微球胶体溶液,将所述胶体溶液旋涂分散在干净的衬底上;选择不同的角度在聚苯乙烯微球衬底表面沉积一层金属薄膜;对沉积有一层金属薄膜的聚苯乙烯微球衬底进行微球去除处理,并在金属孔薄膜表面再沉积一层材料薄膜,然后对两层薄膜进行剥离,得到第一纳米盘结构;在沉积一层金属薄膜后的聚苯乙烯微球衬底表面直接再沉积一层材料薄膜,然后对两层薄膜进行剥离,得到第二纳米盘结构。相比已有的电子束光刻和聚焦离子束刻蚀法,不需要传统纳米盘制备方法所需的干法刻蚀工艺,大大提高了纳米盘结构的制备效率以及降低了制备成本。

基本信息
专利标题 :
一种大面积纳米盘的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481043A
申请号 :
CN202111620496.9
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈凯马楚荣赵峰
申请人 :
暨南大学
申请人地址 :
广东省广州市天河区黄埔大道西601号
代理机构 :
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 :
禹小明
优先权 :
CN202111620496.9
主分类号 :
C23C14/30
IPC分类号 :
C23C14/30  B82Y40/00  C23C14/02  C23C14/06  C23C14/08  C23C14/14  C23C14/35  C23C14/58  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/30
申请日 : 20211227
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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