一种用MBE横向生长纳米线的方法
实质审查的生效
摘要

一种用MBE横向生长纳米线的方法。本发明涉及微纳光波导领域,公开了一种半导体纳米线光波导材料的制备方法。本发明提供的纳米线横向生长方法包括:衬底表面氧化层去除、衬底表面台阶制备、台阶衬底表面热氧化形成氧化层、台阶侧壁圆形窗口制备、台阶下低平面上沟槽制备、处理后的衬底表面清洗、处理后的衬底在分子束外延设备中横向生长纳米线。本发明利用侧壁圆形窗口、低平面上沟槽结合金属液滴引导纳米线横向生长,有效解决现阶段制备纳米线的方法中无法实现纳米线横向生长的问题,获得晶体质量好的横向纳米线材料。

基本信息
专利标题 :
一种用MBE横向生长纳米线的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481308A
申请号 :
CN202111636119.4
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
魏志鹏唐吉龙李科学林逢源贾慧民张贺王晓华马晓辉
申请人 :
长春理工大学
申请人地址 :
吉林省长春市朝阳区卫星路7089号
代理机构 :
北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
安学慧
优先权 :
CN202111636119.4
主分类号 :
C30B25/04
IPC分类号 :
C30B25/04  C30B29/42  C30B29/60  G02B6/13  G02B6/136  B82Y20/00  B82Y40/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长,例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/04
图案沉积,例如使用掩膜的
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 25/04
申请日 : 20211229
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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