本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体公开了一种下沉式真空腔体，包括底板，底板边沿的顶部均固接有侧板，侧板的顶端设有沿口板，位于左侧的侧板上设有抽气口和支撑臂，四个侧板围成的空腔内下沉有盖板，盖板底部两侧安装有放气挡板，放气挡板两侧均设有一排气孔；盖板的顶部固接有盖板下沉板；盖板下沉板的顶部固接有围板，盖板下沉板的两侧顶部均设有快速放气进气口和软放气进气口；盖板下沉板的顶部固接有盖板翻转臂，盖板翻转臂的一端延伸至围板的外部并与支撑臂连接；位于底板两端的侧板外侧均固接有端板，端板上设有若干固定孔，固定孔内设有紧固螺栓；本发明能够防止充气气流直接充进真空腔体将基片吹起或破碎，且生产效率高。