缺陷自分类方法及系统
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种缺陷自分类方法及系统,用于对晶圆上的缺陷进行自分类,其中,所述缺陷自分类方法包括:获取缺陷所在位置的图像信息;将所述图像信息转换为数字灰阶图像;对所述数字灰阶图像进行图形层次识别;以及,根据所述图形层次识别的结果判断所述缺陷的杀伤力大小,并对所述缺陷进行分类。本发明通过将缺陷所在位置的图像信息转换为数字灰阶图像来进行图形层次识别,从而在无需引入芯片设计文件(GDS文件)的情况下判断所述缺陷的杀伤力大小,实现缺陷自分类。

基本信息
专利标题 :
缺陷自分类方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114372969A
申请号 :
CN202111681769.0
公开(公告)日 :
2022-04-19
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
胡向华何广智
申请人 :
上海华力微电子有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区良腾路6号
代理机构 :
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周耀君
优先权 :
CN202111681769.0
主分类号 :
G06T7/00
IPC分类号 :
G06T7/00  G06T7/73  G06T5/00  G06V10/764  G06K9/62  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T7/00
图像分析
法律状态
2022-05-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 7/00
申请日 : 20211230
2022-04-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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