一种离子轰击装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种离子轰击装置，包括加热装置，所述加热装置包括若干发热管、第一外壳和真空室，所述真空室为胶囊状结构，所述真空室包括第二外壳、真空泵、温度传感器和镀膜组件，所述发热管与第二外壳抵接，所述真空泵设于真空室顶面，所述真空泵设有出风口和密封盖板，所述密封盖板设有密封胶圈，所述温度传感器设于真空室底面，所述镀膜组件两侧均匀设有若干镀膜夹具，通过设置加热装置可以加快设备在使用时更快速达到最佳温度。
基本信息
专利标题 ：
一种离子轰击装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202120981783.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-05-08
授权号 ：
CN216192647U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
张大鹏
申请人 ：
广东东华光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇汀山村坑口工业区
代理机构 ：
广东奥益专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴国文
优先权 ：
CN202120981783.1
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
