一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源，包括保护外壳、隔离握持机构、滑动保护机构和内置散热机构，其特征在于：所述保护外壳的两侧设置有隔离握持机构，所述保护外壳的内部设置有滑动保护机构，所述滑动保护机构的内部设置有内置散热机构。该具有防误触结构的直流磁控溅射电源，由于保护外壳与底座之间的固定连接，可通过保护外壳和底座的存在为内部电源提供全方位的保护，而沿着保护外壳两侧内壁对称分布的通风孔可方便内置散热机构的散热功能正常运行，在放置收纳过程中，经过隔离握持机构让电源在遇到颠簸环境和受冲击过程中能够得到一定的保护，让电源的耐用性加强，避免使用者与电源进行直接接触，减少静电的伤害。
基本信息
专利标题 ：
一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121962040.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-20
授权号 ：
CN216237250U
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
吕忠毅梁寅平
申请人 ：
大连派立特电子科技发展有限公司
申请人地址 ：
辽宁省大连市沙河口区昌平街61号776室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202121962040.6
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 H02M1/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-04-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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