本实用新型公开了一种集成电路生产用基片涂层烘干设备，涉及集成电路生产技术领域。该集成电路生产用基片涂层烘干设备，包括机箱、升降机构和烘干机构，所述机箱的内壁固定安装有两个固定隔板，机箱的内部设置有升降隔板，升降隔板与机箱和固定隔板相接触，机箱的内部设置有移动板。通过固定隔板和升降隔板的配合使用，可以使机箱的内部分为进料区、加热区和取料区，再通过固定板、转动杆、转动齿、带齿长杆和伺服电机的配合使用，可以对升降隔板进行升降，从而调节进料区、加热区和取料区的相通，在进取料的过程中，降低加热区内部温度的散失，使下次基片烘干过程中，需要减少烘干时间，保障烘干装置内部的温度和基片的固化程度。