本实用新型涉及集成电路基片生产技术领域，且公开了一种集成电路用基片涂层烘干箱，包括箱体，所述箱体的内部左壁开设有插槽，所述插槽的前端底部开设有卡槽，所述箱体的内部顶壁中部固定安装有温度传感器，所述箱体的内部右壁下端开设有进风口。该集成电路用基片涂层烘干箱，通过启动循环通道内壁的加热板对循环通道内部进行加热，开启风扇将循环通道内部的热量输送到箱体的内部对基板涂层进行烘干，箱体内部热量由于风扇的吹动，使内部气流从进风口进入到循环通道进行加热，持续循环，由于箱体的内部气流一直快速循环流动，使对基片涂层的烘干效率加快，同时也防止了箱体内部热量分布不均的情况出现。