一种集成电路基片涂层烘干箱
授权
摘要
本实用新型公开了一种集成电路基片涂层烘干箱，包括烘干箱壳体，所述烘干箱壳体的顶部均匀开设有透气孔，所述烘干箱壳体的内侧开设有安装槽A，所述烘干箱壳体的内部开设有安装槽B，所述安装槽B的内部设有中温自限温伴热带。该新型集成电路烘干箱具有对被喷涂后的集成电路基片进行烘干操作的功能，而且具有控制设备中的烘干结构在设定时间内进行循环运行的功能，同时能够将集成电路基片进行稳固的放置，实用性好，烘干效果显著，适合广泛推广使用。
基本信息
专利标题 ：
一种集成电路基片涂层烘干箱
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123014320.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-03
授权号 ：
CN216420053U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
陶冶
申请人 ：
深圳市兴意腾科技电子有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽街道松坪山社区高新北二道15号新奥林大厦205
代理机构 ：
安徽盟友知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
樊广秋
优先权 ：
CN202123014320.7
主分类号 ：
B05D3/02
IPC分类号 ：
B05D3/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D3/00
涂布液体或其他流体的表面的预处理；已有涂层的后处理，例如要用液体或其他流体作后续涂布的已有的涂层的中间处理
B05D3/02
烘烤
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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