一种用于检测溅射镀膜机靶材底座真空性能的检测装置
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摘要

本实用新型提供了一种用于检测溅射镀膜机靶材底座真空性能的检测装置,属于机械技术领域。它解决了现有的检测装置检测速度慢的问题。本检测装置,包括箱盖,打开箱盖后可将靶材底座移入第一内腔;检测箱一侧开设有皮带伸至检测箱外部的通孔;驱动机构具有驱动轴和用于连接皮带的皮带轮,驱动轴与皮带轮固定连接,驱动轴驱动皮带轮转动;连接管安装在检测箱的外侧,导气通道与第一内腔连通,连接管用于连接外部的气管,导气通道与气管连通;当靶材底座移入第一内腔后,靶材底座与检测箱相配合形成密闭的第一内腔。本实用新型操作方便,无需将靶材底座安装在机台上就能提前实现检漏,并且检测过程迅速。确保了靶材底座的质量,具有极大的经济效益。

基本信息
专利标题 :
一种用于检测溅射镀膜机靶材底座真空性能的检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122493119.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-14
授权号 :
CN216207334U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
陆张武黄敏李恭剑王迎周荣波
申请人 :
浙江晶驰光电科技有限公司
申请人地址 :
浙江省台州市椒江区开发大道东段2198号一期联合厂房3楼-A
代理机构 :
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 :
张海兵
优先权 :
CN202122493119.5
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  G01M3/34  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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