一种可移动式铜排电镀装置
授权
摘要

本实用新型涉及铜排电镀装置领域,尤指一种可移动式铜排电镀装置,包括主板,所述主板的顶端安装有加工箱,所述主板的外壁设置有转盘,所述转盘的外壁开设有放置槽,所述放置槽的一端连接有固定块,所述转盘的外壁安装有转柄,所述主板的底端连接有支柱,所述支柱的内壁连接有收放盒,所述支柱的内壁位于收放盒的下方套接有连接杆。该可移动式铜排电镀装置,利用加工箱的外壁与放置槽接触处设置有磁块,可以实现在转动的同时使固定块打开将材料放置加工箱的内部进行电镀,可以在工作人员进行电镀作业时,可以实现轻松便捷的添加材料,避免浪费不必要的时间和精力,大大的提高了工作效率和工作进程,具有一定的便捷性。

基本信息
专利标题 :
一种可移动式铜排电镀装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122532627.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-20
授权号 :
CN216712276U
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
曹超
申请人 :
张家港市泉丰机械有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市张家港市锦丰镇三兴五棵松路
代理机构 :
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孙路生
优先权 :
CN202122532627.X
主分类号 :
C25D17/00
IPC分类号 :
C25D17/00  C25D21/12  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2022-06-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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