一种结构稳定的便于调节的真空镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了真空镀膜机设备技术领域的一种结构稳定的便于调节的真空镀膜机，包括真空镀膜机，所述真空镀膜机的上表面中心位置开设有镀膜仓，所述真空镀膜机的前端面下方开设有烘干仓，所述镀膜仓的内部中心位置开设有放置仓，所述放置仓内部底端中心位置安装有调节机构，所述烘干仓的内部底端安装有安装架，其结构合理，本实用新型通过设有调节机构，使板型工件放置在放置座A上的放置槽A中，操作调节机构即可将板型工件进行调节夹持，实现了真空镀膜机具有可稳定调节的作用，同时结构简单、操作方便，省去大量繁琐步骤，有效的提高了真空镀膜机的工作效率及运行过程中的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种结构稳定的便于调节的真空镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122709192.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-05
授权号 ：
CN216303982U
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
吴婷婷
申请人 ：
深圳市昊志成科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区横岗街道荷坳社区金源三路4号厂房四楼整层
代理机构 ：
深圳市汇信知识产权代理有限公司
代理人 ：
张志凯
优先权 ：
CN202122709192.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-04-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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