一种真空镀膜结构
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摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜结构,具体涉及真空镀膜设备领域,包括设备壳体,所述设备壳体的底部固定连接有底座,所述设备壳体的内部活动设有传动杆,所述传动杆通过轴承转动连接在底座内壁的底部,所述传动杆的表面通过连接杆分别固定连接有上固定圈和下固定圈。本实用新型通过传动杆带动下固定圈转动时,使得下固定圈带动转动盘转动,配合齿牙槽使得转动盘带动挂件杆分别同时以支撑杆和挂件杆为转轴转动,从而使得对挂件杆的镀膜更均匀,通过齿轮与齿圈的内壁啮合,使得挂件杆在分别以支撑杆和挂件杆为转轴转动的同时并发生着自转,从而使得镀膜更均匀,从而实现镀膜更均匀,且产品质量得到提高的目的。

基本信息
专利标题 :
一种真空镀膜结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921926754.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-08
授权号 :
CN211170870U
授权日 :
2020-08-04
发明人 :
张新岳
申请人 :
深圳市瑞泓塑胶五金镀膜技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区松岗街道燕川社区新达路13号厂房
代理机构 :
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 :
周志中
优先权 :
CN201921926754.4
主分类号 :
C23C14/50
IPC分类号 :
C23C14/50  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-08-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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