一种便于取出的真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其为一种便于取出的真空镀膜装置，包括真空镀膜主体、推杆和电热杆，所述真空镀膜主体底部固定连接有滑杆，所述滑杆内固定连接有支撑板，所述支撑板顶部设有连接板，所述连接板两侧转动连接有滑轮，所述连接板顶部固定连接有支撑杆，所述支撑杆外侧固定连接有置物杆，所述支撑杆正前方底部设有推杆，所述推杆后方固定连接有连接杆，所述连接杆外侧设有弹簧，本实用新型中，通过设置的连接板、滑轮和小车可以推动支撑杆，使滑轮在滑杆内滑动，方便的将支撑杆和镀膜物品取出，同时通过设置的推杆、连接杆和固定块可以在物品进行镀膜时对支撑杆与物品进行定位，方便对物品进行镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种便于取出的真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021956766.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-09
授权号 ：
CN212955332U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
王振东
申请人 ：
沈阳镨和真空电子设备有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市沈北新区蒲河路83号
代理机构 ：
沈阳天之冠专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
石运芹
优先权 ：
CN202021956766.4
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/58 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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