一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源
授权
摘要
本实用新型提供了一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，属于薄膜上镀层制备技术领域。它解决了现有金属镀层表面粗糙度高，表面不平整的问题。本用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，该离子源包括离子源装置、精密气体流量控制装置、高压电线电缆和高频直流电源，离子源装置包括壳体，所述的壳体两对边分别设置有固定板一和固定板二，固定板一上开设有观察口，壳体内均匀分布有若干组磁性管，若干组磁性管内均设有磁钢，壳体的另外两对边均分别设有一组导向块。本实用新型具有提高金属镀层表面光滑性及平整度的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122794736.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-15
授权号 ：
CN216253322U
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
林正亮
申请人 ：
温岭市倍福机械设备制造有限公司
申请人地址 ：
浙江省台州市温岭市箬横镇西汇头村塘头下88号D幢一层东面
代理机构 ：
浙江专橙律师事务所
代理人 ：
徐晓
优先权 ：
CN202122794736.9
主分类号 ：
H05H1/26
IPC分类号 ：
H05H1/26 H05H1/46
法律状态
2022-04-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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