一种用于碳化硅晶体生长炉的石英腔体结构
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摘要

本实用新型涉及一种用于碳化硅晶体生长炉的石英腔体结构,属于碳化硅半导体材料器件生产技术领域;包括石英管,石英管与上端的上盖之间采用石英法兰密封,与下端的下盖之间采用直筒侧密封;石英管的上端开口处设置有石英法兰,上盖设置于石英法兰的上端面,上盖的外径大于石英法兰的外径,上盖与石英法兰之间设有O型橡胶密封圈,石英法兰的下部设置有托环,托环为环形结构,套接于石英管的外侧,托环的上端面设有圆柱形凹槽,石英法兰设置于托环的圆柱形凹槽内,石英法兰与圆柱形凹槽底部端面之间设有四氟缓冲垫圈,上盖以及托环通过螺栓固定连接;解决了目前碳化硅晶体生长炉密封结构中的O型圈易被烘烤老化而导致密封泄漏的问题。

基本信息
专利标题 :
一种用于碳化硅晶体生长炉的石英腔体结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122933432.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-26
授权号 :
CN216274469U
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
刘英斌赵丽霞魏汝省周立平李大恭张继光李胜华徐雅坤张馨丹
申请人 :
山西烁科晶体有限公司
申请人地址 :
山西省太原市综改示范区太原唐槐园区唐槐路5号
代理机构 :
太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
吴立
优先权 :
CN202122933432.6
主分类号 :
C30B29/36
IPC分类号 :
C30B29/36  C30B35/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/36
碳化物
法律状态
2022-04-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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