一种溅射靶材打磨装置
授权
摘要

本实用新型公开了溅射靶材加工设备领域的一种溅射靶材打磨装置,包括工作台,工作台的上表面固定连接有支撑架,且支撑架的形状设置为L型,支撑架的上表面设置有打磨机构,工作台的下表面设置有清洁机构,打磨机构包括气缸、固定架、电机、打磨刷、齿条、双向丝杆、齿轮、移动架、保护垫和移动轮,支撑架的上表面固定连接有气缸,气缸的活动端固定连接有固定架和电机,电机位于固定架的下表面,电机的输出端固定连接有打磨刷,固定架的圆周面固定连接有齿条,工作台的上表面活动连接有双向丝杆,本实用新型,可以固定夹紧定位槽中的溅射靶材来防止打磨操作时,溅射靶材发生位移导致打磨的光洁度和平面度达不到标准要求。

基本信息
专利标题 :
一种溅射靶材打磨装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123080506.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-09
授权号 :
CN216298880U
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
孔伟华
申请人 :
江苏东玖光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省徐州市睢宁县双沟镇空港经济开发区临空大道与安澜大道交叉口
代理机构 :
南京佰腾智信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
黄杭飞
优先权 :
CN202123080506.2
主分类号 :
B24B19/00
IPC分类号 :
B24B19/00  B24B41/06  B24B47/00  B24B47/14  B24B47/12  B24B47/16  B24B55/00  B24B55/06  B24B55/12  B01D46/10  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B19/00
未包括在其他任一大组的特殊磨削加工的专用机床或装置
法律状态
2022-04-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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