预抽真空装置
授权
摘要
本实用新型公开一种预抽真空装置，包括壳体、输送台和至少一个液冷板，输送台和液冷板均设置在壳体内，输送台用于输送玻璃基板，液冷板设置在输送台的上方，且液冷板与输送台的上表面垂直设置。本实用新型的预抽真空装置在壳体内设有液冷板，受热的惰性气体会向上升并与液冷板之间进行热交换，使得预抽真空装置中的惰性气体保持在较低的温度，从而有效缩短玻璃基板的冷却时间，提高生产效率。由于气体受热后上升的特性，将液冷板与输送台的上表面垂直设置，相较于将液冷板与输送台的上表面平行的设置方式，能让液冷板对更大高度范围的惰性气体起到冷却作用，因而具有更好的冷却效果。
基本信息
专利标题 ：
预抽真空装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123154262.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-14
授权号 ：
CN216663218U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
朴常材
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
沈鑫洪
优先权 ：
CN202123154262.8
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/56 H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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