一种水性显影可低温固化的负性聚酰亚胺光刻胶
实质审查的生效
摘要
本发明涉及光刻胶技术领域,更具体的说是涉及一种水性显影可低温固化的负性聚酰亚胺光刻胶，该负性聚酰亚胺光刻胶，包含：主体树脂、产酸剂、产酸剂以及溶剂，所述主体树脂、产酸剂、产酸剂以及溶剂的质量配比为：10‑80:1‑20:10‑30:10‑90。本发明的负性聚酰亚胺光刻胶可在200℃完全固化，具有优良的机械性能，介电性能和耐温性。采用弱碱性水溶液显影、去离子水定影，无环保隐患，大大改善了生产环境，且降低了生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种水性显影可低温固化的负性聚酰亚胺光刻胶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114280888A
申请号 ：
CN202210000868.6
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2022-01-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘聘于强刘增花孙逊运
申请人 ：
潍坊星泰克微电子材料有限公司
申请人地址 ：
山东省潍坊市潍坊高新区清池街道府东社区高二路417号2号楼1-2层
代理机构 ：
北京贵都专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李新锋
优先权 ：
CN202210000868.6
主分类号 ：
G03F7/038
IPC分类号 ：
G03F7/038 G03F7/004
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/038
高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/038
申请日 : 20220104
申请日 : 20220104
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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