一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用。本发明化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶，为下述(1)或(2)：(1)由聚酰亚胺前驱体固体树脂、光产酸剂、光交联剂和有机溶剂组成；(2)由聚酰亚胺前驱体固体树脂、光产酸剂、光交联剂、功能助剂和有机溶剂组成；所述功能助剂为光敏促进剂、助黏剂和抑制剂中的至少一种；所述抑制剂为热聚合抑制剂和/或碱性抑制剂；所述聚酰亚胺前驱体固体树脂由芳香族二酰氯二酯、芳香族二胺和封端剂制成；所述芳香族二酰氯二酯由芳香族二酸二酯和酰氯化试剂制成；所述芳香族二酸二酯由芳香族四酸二酐和低级脂肪醇制成。
基本信息
专利标题 ：
一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488690A
申请号 ：
CN202210127932.7
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-02-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨士勇王立哲贾斌曹雪媛孙朝景
申请人 ：
中国科学院化学研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村北一街2号
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘鑫鑫
优先权 ：
CN202210127932.7
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/038 H01L21/027 H01L23/31
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20220211
申请日 : 20220211
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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