一种高通量制备薄膜或涂层的方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种高通量制备薄膜或涂层的方法，在LCVD设备基础上加装光路控制系统，所述LCVD设备激光光源半径为r，所述加装光路控制系统包括沿激光入射方向设置的透镜组，激光通过透镜组在基板表面形成面积为S，半径为h的圆形束斑，其中h大于r，并且束斑从S中心到边缘温度逐渐均匀、有规律地降低，在基板表面获得稳定可控的大梯度温度场，采用LCVD工艺在基板表面实现高通量制备薄膜或涂层。本发明通过调整光路控制系统中透镜组的间距等参数控制基板温度环形梯度分布，快速制备大通量的薄膜或涂层，在单次试验中可获得多个不同生长条件下的样本，对制备所得的薄膜涂层材料的结构与组成进行表征，得到优化的实验参数。
基本信息
专利标题 ：
一种高通量制备薄膜或涂层的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369815A
申请号 ：
CN202210015245.6
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2022-01-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
章嵩刘子鸣徐青芳涂溶张联盟
申请人 ：
武汉理工大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
代理机构 ：
湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人 ：
官群
优先权 ：
CN202210015245.6
主分类号 ：
C23C16/52
IPC分类号 ：
C23C16/52 C23C16/48
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/52
镀覆工艺的控制或调整
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/52
申请日 : 20220107
申请日 : 20220107
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
