基于AFM纳米铣削及化学腐蚀加工的表面增强拉曼基底制备方...
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种基于AFM纳米铣削及化学腐蚀加工的表面增强拉曼基底制备方法，所述方法包括如下步骤：步骤（1）采用磁控溅射法在基底表面依次制备金膜、银膜和金膜；步骤（2）基于AFM的纳米铣削加工系统，在金‑银‑金复合膜表面纳米铣削加工周期纳米结构；步骤（3）将纳米铣削加工得到的周期纳米结构放入浓硝酸中，对周期纳米结构边缘裸露的银层进行化学腐蚀，从而制备得到中空的纳米腔；步骤（4）以化学腐蚀后的带有纳米腔的复合膜周期阵列结构作为拉曼增强基底。该方法可以快速高效的制备结构特征尺寸可控、等离子体共振可调、一致性好的拉曼增强基底。
基本信息
专利标题 ：
基于AFM纳米铣削及化学腐蚀加工的表面增强拉曼基底制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114411152A
申请号 ：
CN202210023523.2
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2022-01-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
耿延泉王继强闫永达
申请人 ：
哈尔滨工业大学
申请人地址 ：
黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
代理机构 ：
哈尔滨龙科专利代理有限公司
代理人 ：
李智慧
优先权 ：
CN202210023523.2
主分类号 ：
C23F1/30
IPC分类号 ：
C23F1/30 C23F1/44 C23C14/18 C23C14/35 C23C14/54 C23C14/58 G01N21/65 B23C3/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F1/00
金属材料的化学法蚀刻
C23F1/10
蚀刻用组合物
C23F1/14
含水组合物
C23F1/16
酸性组合物
C23F1/30
蚀刻其他金属材料用的
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23F 1/30
申请日 : 20220110
申请日 : 20220110
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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