一种等离子物理气相沉积用喷枪及热障涂层制备方法
授权
摘要
本发明公开了一种等离子物理气相沉积用喷枪及热障涂层制备方法，针对现有等离子物理气相沉积技术所用等离子喷枪阴阳极寿命短，及粉末成本高等问题，通过增加陶瓷衬套和辅助阳极的设计，加大了阴阳极间距离，轴向送粉，3‑6个阴极轴向对称设计，辅助阳极实现引弧，在相同工况条件下提高了工作电压，较小的工作电流即可达到较大的喷涂功率，同时延长了粉末在等离子中的加热距离，大大降低对粉末的要求，延长了阴阳极寿命，提高了引弧稳定性，实现了高粉末气化率，极大降低了生产成本，延长了涂层使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子物理气相沉积用喷枪及热障涂层制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114059024A
申请号 ：
CN202210046028.3
公开（公告）日 ：
2022-02-18
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
CN114059024B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
郭洪波彭徽郭谦何雯婷魏亮亮
申请人 ：
北京航空航天大学
申请人地址 ：
北京市海淀区学院路37号
代理机构 ：
北京天汇航智知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
史继颖
优先权 ：
CN202210046028.3
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2022-03-08 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20220117
申请日 : 20220117
2022-02-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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