反射部件及工艺腔室
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种反射部件及工艺腔室，反射部件包括反射层结构，反射层结构包括至少一个反射层组，各反射层组均包括层叠设置的第一透光介质层和第二透光介质层，且第一透光介质层的折射率和第二透光介质层的折射率不同；第一透光介质层用于供光波入射并反射光波产生第一反射光，第二透光介质层用于反射光波产生第二反射光；第二透光介质层的厚度满足能够使第一反射光和第二反射光的光程差为光波的波长的整数倍。本发明提供的射部件及工艺腔室能够提高反射率，提高测温准确度，从而改善半导体工艺。
基本信息
专利标题 ：
反射部件及工艺腔室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114371525A
申请号 ：
CN202210053699.2
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2022-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王石
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭瑞欣
优先权 ：
CN202210053699.2
主分类号 ：
G02B5/08
IPC分类号 ：
G02B5/08 H01L21/67
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/08
反射镜
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/08
申请日 : 20220118
申请日 : 20220118
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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