用于清洗工艺腔室的漏液监控装置及清洗工艺腔室
授权
摘要
一种用于清洗工艺腔室的漏液监控装置及清洗工艺腔室，漏液监控装置包括：卡杯，卡杯设置于清洗工艺腔室内，用于接收溅出清洗机台的漏液和非清洗工艺期间的冲洗液；排液管，排液管连接至卡杯的底部，用于将漏液排出清洗工艺腔室；以及漏液传感器，漏液传感器设于排液管内，用于监测是否发生漏液。漏液监控装置可及时发出漏液信号，从而避免出现漏液导致的晶片缺陷或报废、电机腐蚀等情况。
基本信息
专利标题 ：
用于清洗工艺腔室的漏液监控装置及清洗工艺腔室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110534452A
申请号 ：
CN201811326699.5
公开（公告）日 ：
2019-12-03
申请日 ：
2018-11-08
授权号 ：
CN110534452B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
刘效岩
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京思创毕升专利事务所
代理人 ：
孙向民
优先权 ：
CN201811326699.5
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2019-12-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20181108
申请日 : 20181108
2019-12-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN110534452A.PDF
PDF下载
