一种清洗腔室

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本实用新型涉及一种清洗腔室，包括：腔体；在腔体内设有可转动的承载台；在承载台的上端设有用于夹持硅片的多个夹爪；设置在腔体正上方的风机过滤机组，且风机过滤机组的送风口正对承载台；在风机过滤机组的两侧分别设有可上下升降的机械臂，且机械臂远离送风口；在机械臂的前端设有可横向移动的承载件，承载件可绕机械臂的前端旋转；本实用新型的清洗腔室中腔体内的气体流向不会被阻挡，腔体内的清洁度高；同时也不会在将腔体内壁上残留的药液飞溅到机械臂和承载件上，避免了对硅片的二次勿扰，并且在防护罩与承载台之间开有间隙，气体流通顺畅，避免空气中的残留颗粒留在硅片上，保证硅片的清洗精度和清洗效果。

基本信息

专利标题：

一种清洗腔室

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920484550.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-12

授权号：

CN209729883U

授权日：

2019-12-03

发明人：

余涛唐杰

申请人：

若名芯半导体科技（苏州）有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市工业园金鸡湖大道99号苏州纳米城中北区23幢214室

代理机构：

苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

潘志渊

优先权：

CN201920484550.3

主分类号：

H01L21/687

IPC分类号：

H01L21/687 H01L21/67 B08B5/02 B08B3/02 B08B13/00