一种外延生长温度测量方法以及外延设备温度校准方法
实质审查的生效
摘要

公开了一种外延生长温度测量方法以及外延设备温度校准方法,所述外延生长温度测量方法包括将待测衬底置于外延设备的腔体内进行外延生长;获取所述待测衬底在所述腔体内外延生长之后的当前对位标记参数;将所述当前对位标记参数与多个预设的标准对位标记参数进行对比,以获取所述腔体内的外延生长温度;其中,不同的标准对位标记参数对应不同的温度,与当前对位标记参数差异最小的标准对位标记参数所对应的温度为所述待测衬底的外延生长温度。本发明通过将当前对位标记的参数与标准对位标记的参数进行对比来测量外延生长温度,以避免温度计测温不能模拟外延设备腔体内部的温度环境、人为测量误差及多次反复测量的问题。

基本信息
专利标题 :
一种外延生长温度测量方法以及外延设备温度校准方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481313A
申请号 :
CN202210064387.1
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王凯华许健严瑶
申请人 :
厦门士兰集科微电子有限公司
申请人地址 :
福建省厦门市海沧区兰英路89号
代理机构 :
北京成创同维知识产权代理有限公司
代理人 :
蔡纯
优先权 :
CN202210064387.1
主分类号 :
C30B25/16
IPC分类号 :
C30B25/16  C30B25/20  C30B29/06  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长,例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/16
控制或调节
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 25/16
申请日 : 20220120
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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