外延生长设备
授权
摘要
1.本外观设计产品的名称：外延生长设备。2.本外观设计产品的用途：用于进行单晶硅外延生长。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
基本信息
专利标题 ：
外延生长设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202130516299.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-10
授权号 ：
CN307302506S
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
石磊唐超凡王娟刘柱万胜强李勇王韬鲁彤
申请人 ：
中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请人地址 ：
湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
代理机构 ：
湖南兆弘专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘畅舟
优先权 ：
CN202130516299.7
主分类号 ：
15-99
IPC分类号 ：
15-99
法律状态
2022-04-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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