一种FDSOI器件的接触孔连接位置检测方法
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摘要

本发明公开了一种FDSOI器件的接触孔连接位置检测方法,其可实现接触孔底端与介质层具体连接位置的准确检测,提供一半导体器件,半导体器件包括衬底、依次沉积于衬底的不同介质层,缺陷检测方法包括:提供接触孔刻蚀样本,将样本随机划分为第一样本、第二样本,样本中接触孔底端位于不同介质层,采集第一样本中接触孔输出电压,获取电子束成像图及灰度值,对各个第一样本进行剖切,获取接触孔与各介质层不同连接位置,根据电压与不同连接位置对应关系,建立第一数据库,根据灰度值与电压对应关系或根据灰度值与不同连接位置对应关系,建立第二数据库,基于第一数据库、第二数据库,对第二样本中接触孔连接位置进行检测。

基本信息
专利标题 :
一种FDSOI器件的接触孔连接位置检测方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114093786A
申请号 :
CN202210077135.2
公开(公告)日 :
2022-02-25
申请日 :
2022-01-24
授权号 :
CN114093786B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
廖致弘叶甜春朱纪军罗军李彬鸿赵杰
申请人 :
澳芯集成电路技术(广东)有限公司;广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
申请人地址 :
广东省广州市黄埔区香雪大道中85号1601-1607房
代理机构 :
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
苗雨
优先权 :
CN202210077135.2
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  G01R31/26  G01R31/265  G01B15/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-04-15 :
授权
2022-03-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20220124
2022-02-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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