一种在金属表面制备还原石墨烯薄膜的方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种在金属箔表面原位制备还原石墨烯薄膜的方法。所述方法是采用聚乙烯醇(PVA)作为添加剂，采铟、铜、铁等金属单质同时作为还原剂和生长基底，制备得到还原石墨烯薄膜。所述方法可在较低温度下制备，可以通过控制反应时间及温度控制膜厚；制备过程无需使用大量有毒试剂，对于环境绿色友好；无需高温加热，节约能源，是一种高效环保的制备方法。
基本信息
专利标题 ：
一种在金属表面制备还原石墨烯薄膜的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540812A
申请号 ：
CN202210092739.4
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王儒涛李崇兴赵涵李桐张树贤
申请人 ：
山东大学
申请人地址 ：
山东省济南市历下区经十路17923号
代理机构 ：
济南圣达知识产权代理有限公司
代理人 ：
王志坤
优先权 ：
CN202210092739.4
主分类号 ：
C23C26/00
IPC分类号 ：
C23C26/00 C01B32/184 H01M10/0525 H01G11/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C26/00
不包含在C23C2/00至C23C24/00各组中的镀覆
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 26/00
申请日 : 20220126
申请日 : 20220126
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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