一种高精度温度控制的超稳光学腔
公开
摘要
本发明公开了一种高精度温度控制的超稳光学腔，包括真空系统、温度控制系统和综合程序控制系统；所述真空系统用于为高精度温度控制的超稳光学腔提供良好的真空环境；所述温度控制系统用于提高高精度温度控制的超稳光学腔的可操控性和高精度，通过集成在真空腔内的多层温度控制和支撑结构，保持了超稳光学腔的温度恒定；所述综合程序控制系统用于为高精度温度控制的超稳光学腔提供便捷的实时显示、记录和反馈功能，便于及时做出调整和优化；实时读取和记录真空度和温度值，同时将采集到的数据进行处理。本发明提高了超稳光学腔在温度控制方面的精度，保证超稳光学腔的有效腔长，并且在温度控制模式上可实现制冷和制热模式，扩展了适用范围。
基本信息
专利标题 ：
一种高精度温度控制的超稳光学腔
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114625187A
申请号 ：
CN202210107517.5
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-01-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
沈荣勋张善超林芳州黄威龙王嘉旋
申请人 ：
华南师范大学
申请人地址 ：
广东省广州市中山大道西55号
代理机构 ：
广州容大知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新年
优先权 ：
CN202210107517.5
主分类号 ：
G05D23/19
IPC分类号 ：
G05D23/19
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D23/00
温度的控制
G05D23/19
以使用电装置为特征的
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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