一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置
实质审查的生效
摘要
本申请提供一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置,获取待测氧化镓衬底远离抛光垫的一面的均布载荷,将均布载荷输入有限元模型,获得待测氧化镓衬底与抛光垫之间的接触压力,根据接触压力、研磨粒子的浓度、待测氧化镓衬底的硬度、研磨粒子的直径、研磨系数、研磨转速、研磨时间、氧化镓衬底的面积计算得到待测氧化镓衬底的研磨去除率,根据氧化镓衬底的研磨去除率、氧化镓衬底的各部分的原高度和氧化镓衬底研磨后的平均高度计算得到氧化镓衬底表面的算术平均粗糙度。从而实现了对氧化镓衬底表面研磨形貌的预测,根据预测结果可及时调整以指导实际研磨工艺,降低工艺试错成本,得到平坦性较好的表面,减少浪费,缩短从设计到制造的周期。
基本信息
专利标题 :
一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114462284A
申请号 :
CN202210163834.9
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2022-02-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘建云陈岚曹鹤孙艳
申请人 :
中国科学院微电子研究所
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号中国科学院微电子研究所
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
柳虹
优先权 :
CN202210163834.9
主分类号 :
G06F30/23
IPC分类号 :
G06F30/23 G16C10/00 G16C60/00 G06F111/04 G06F119/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/23
使用有限元方法或有限差方法
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/23
申请日 : 20220222
申请日 : 20220222
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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