一种高热导率薄膜及其制备方法与应用
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种高热导率薄膜及其制备方法与应用，包括聚合物基质和分散在聚合物基质中的光子结构纳米片；所述聚合物基质为具有高光反射率和高红外发射率的有机高分子聚合物；添加量为30‑85％，优选为50‑80％。该高热导率薄膜具有较好的辐射冷却效果，可以大幅度降低室外物体的表面温度，且不消耗能量，比较适合亚环境和高温环境中物体的辐射冷却。
基本信息
专利标题 ：
一种高热导率薄膜及其制备方法与应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114350155A
申请号 ：
CN202210170169.6
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2022-02-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杜慕黄茂荃孙锲
申请人 ：
山东大学
申请人地址 ：
山东省济南市历下区经十路17923号
代理机构 ：
济南圣达知识产权代理有限公司
代理人 ：
张晓鹏
优先权 ：
CN202210170169.6
主分类号 ：
C08L83/04
IPC分类号 ：
C08L83/04 C08K7/00 C08K3/38 C08J5/18 C08L33/12 C08L69/00 C08L27/16 C08L67/02 H05K7/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L83/00
由只在主链中形成含硅的，有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物；此种聚合物的衍生物的组合物
C08L83/04
聚硅氧烷
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08L 83/04
申请日 : 20220223
申请日 : 20220223
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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