等离子体传输装置
公开
摘要
本发明公开了一种等离子体传输装置，包括传输管道和偏压供电装置，等离子体从传输管道的入口端进入传输管道并从传输管道的出口端输出，传输管道包括至少两个沿其周向间隔分布的电极板；偏压供电装置用于对各电极板进行偏压供电并切换各电极板的供电状态以使传输管道的等离子体在向外运动和向内运动之间来回改变，从而防止传输管道的等离子体中的负电粒子始终向外运动撞击挂壁使管壁呈负电而破坏管壁的导电性，进而提高传输管道的传输性能的稳定性。由于传输管道的等离子体在轴壁间来回运动使等离子体之间相互碰撞，提高等离子体的离化效率。此外，通过偏压供电装置对各电极板供电，结构简单，能够有效降低等离子体传输装置的成本。
基本信息
专利标题 ：
等离子体传输装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574807A
申请号 ：
CN202210194844.9
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-02-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
曹时义王俊锋
申请人 ：
广东鼎泰高科技术股份有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇赤岭工业一环路12号之一2号楼102室
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
刘光明
优先权 ：
CN202210194844.9
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/48
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
