一种磁控溅射陶瓷靶材及制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种磁控溅射陶瓷靶材及制备方法，所述陶瓷靶材由氧化锌、掺杂物和助烧物组成，所述掺杂物含量占比为0.7‑2.5wt%，所述助烧物含量占比为0.08‑0.15wt%；所述掺杂物的组成为钨酸锌和/或钼酸锌，当掺杂物为钨酸锌和钼酸锌的混合物时，其中钨酸锌的占比为30‑70wt%；所述助烧物为硼酸锌、硅酸锌和铋酸锌的混合物，其中硼酸锌、硅酸锌和铋酸锌的占比分别为20‑30wt%、40‑60wt%和20‑30wt%。采用本发明提供的陶瓷靶材进行磁控溅射镀膜，可以获得高载流子迁移率的透明导电薄膜。
基本信息
专利标题 ：
一种磁控溅射陶瓷靶材及制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114436641A
申请号 ：
CN202210197348.9
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2022-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
许积文余晨旭杨玲王华周贤界
申请人 ：
桂林电子科技大学
申请人地址 ：
广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号
代理机构 ：
桂林文必达专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
白洪
优先权 ：
CN202210197348.9
主分类号 ：
C04B35/453
IPC分类号 ：
C04B35/453 C23C14/35 C23C14/08 C04B35/622 C04B35/64
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C04
水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料
C04B
石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如：砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的处理
C04B35/00
以成分为特征的陶瓷成型制品；陶瓷组合物；准备制造陶瓷制品的无机化合物的加工粉末
C04B35/01
以氧化物为基料的
C04B35/453
以氧化锌、氧化锡或氧化铋或与其他氧化物的固溶体为基料的
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C04B 35/453
申请日 : 20220302
申请日 : 20220302
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
