本发明涉及一种1030nm正弦型介质光栅及其制作方法，该光栅包括顶部光栅、中间多层介质层和基底；顶部光栅的材料为高折射率膜料，中间多层介质层包括若干交替叠加的高折射率材料介质膜层和低折射率材料介质膜层，基底的材料为低折射率材料；顶部光栅的槽型为正弦型。该制作方法在中间多层介质层上方设置一层高折射率膜层，高折射率膜层的材料为高折射率膜料，高折射率膜层的厚度为0.5‑0.6μm；在高折射率膜层上设置一层光刻胶；通过全息干涉系统在将光刻胶制作成掩膜，进而刻蚀成顶部光栅。该光栅可以使TE和TM两种偏振态在1020‑1040nm波段内利特罗入射下拥有极高的衍射效率，且制作时仅需对一层膜层进行刻蚀，刻蚀工艺冗余度高。