用于光学元件表面损伤坑修复的胶体的制备及应用
公开
摘要
本发明公开了一种用于光学元件表面损伤坑修复的胶体的制备方法及应用，包括：将聚乙烯醇和高纯水混合搅拌，得到胶体A；将胶体A置于25℃恒温下，静置24‑36h，得到胶体B；将胶体B进行加热搅拌，得到胶体C；在胶体C中缓慢滴加刻蚀剂，并搅拌至充分溶解，得到用于光学元件表面损伤坑修复的胶体。该胶体可用于光学元件表面损伤坑的修复，修复效率高，且可修复800μm以上的损伤坑，从而提升光学元件的抗激光损伤阈值。此修复方法是利用HF的刻蚀性，对损伤坑内部进行轻度刻蚀，使其内部平滑，可减缓激光通过光学元件时由于损伤坑所引起的光场调制，一方面可以避免损伤坑尺寸的进一步扩大，另一方面也能避免引起下游光学元件的损伤。
基本信息
专利标题 ：
用于光学元件表面损伤坑修复的胶体的制备及应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114573931A
申请号 ：
CN202210212658.3
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蒋一岚吕海兵牛龙飞苗心向周国瑞
申请人 ：
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 ：
四川省绵阳市科学城绵山路64号
代理机构 ：
北京远大卓悦知识产权代理有限公司
代理人 ：
贾晓燕
优先权 ：
CN202210212658.3
主分类号 ：
C08L29/04
IPC分类号 ：
C08L29/04 C08K3/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L29/00
具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物的组合物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且至少有1个是以醇、醚、醛、酮、醛缩醇或酮缩醇基为终端；不饱和醇与饱和羧酸的酯水解的聚合物的组合物；此种聚合物的衍生物的组合物
C08L29/02
不饱和醇的均聚物或共聚物
C08L29/04
聚乙烯醇；部分水解的不饱和醇与饱和羧酸的酯的均聚物或共聚物
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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