晶片胶体修复涂布装置
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摘要

本实用新型提供一种晶片胶体修复涂布装置,用于将修复液均匀地涂布于晶片胶体上,以修复该晶片胶体的表面刮痕,包括工作载台、修复液涂布轮、修复液供给单元、修复液整平轮以及整平马达,其中工作载台用于承载晶片胶体;修复液涂布轮系对晶片胶体进行修复液涂布;修复液整平轮系对晶片胶体上的修复液进行抹平,整平马达系驱动修复液整平轮旋转。当晶片胶体修复涂布装置进行晶片胶体的修复涂布作业时,修复液涂布轮会先接触位于工作载台上的晶片胶体,以将修复液涂布在晶片胶体上,接着修复液整平轮会接触工作载台上的晶片胶体,以将涂布在晶片胶体上的修复液抹平。

基本信息
专利标题 :
晶片胶体修复涂布装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022287647.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-14
授权号 :
CN213967370U
授权日 :
2021-08-17
发明人 :
林进诚
申请人 :
沛鑫科技有限公司
申请人地址 :
中国台湾桃园市
代理机构 :
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
代理人 :
李林
优先权 :
CN202022287647.0
主分类号 :
B05C1/02
IPC分类号 :
B05C1/02  B05C13/02  B05C9/10  B05C11/02  B08B1/02  B08B5/04  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C1/00
在装置中使用工件与载有液体或其他流体的构件相接触,例如多孔构件装上作涂层用的液体,将液体或其他流体涂布于工件表面
B05C1/02
对分开的各个物品涂布液体或其他流体
法律状态
2021-08-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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