厚度测量方法及装置
公开
摘要
公开了一种厚度测量方法，包括：获取待测样品，所述待测样品包括叠层结构以及贯穿所述叠层结构的沟道柱，所述叠层结构包括交替堆叠的多个层间绝缘层和多个虚拟栅极层，其中，所述虚拟栅极层包括依次形成的高K介质层、氮化钛层和介质层；对所述待测样品进行减薄处理得到待测样本；根据扫描透射电子显微镜的优化参数采集所述待测样本的扫描透射电子暗场图像；对所述扫描透射电子暗场图像进行自动厚度测量，得到所述待测样本中所述氮化钛层的厚度。本发明实施例提供的厚度测量方法，将原来的金属层填充替换成介质层填充从而形成虚拟栅极层，使得在后续的扫描透射电子暗场图像上可以清晰地识别出氮化钛层的边界。
基本信息
专利标题 ：
厚度测量方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114577151A
申请号 ：
CN202210260513.0
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王莹飞刘军吴正利魏强民
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
北京成创同维知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡纯
优先权 ：
CN202210260513.0
主分类号 ：
G01B15/02
IPC分类号 ：
G01B15/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B15/00
以采用波或粒子辐射为特征的计量设备
G01B15/02
用于计量厚度
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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