多维度图案化硅基纳米草制备方法及其应用，包括金属辅助化学刻蚀硅基纳米草系列实验及参数设计；电场/电流辅助下多维度复杂结构表面上硅基纳米草的制备；基于光刻掩膜工艺的图案化硅基纳米草。本发明研究了金属辅助化学刻蚀硅基纳米草中的各项参数，为之后不同应用场景中工艺参数的选择提供了重要的参考依据；采用了电场/电流的辅助方法，设计了专用电流/电场下金属辅助化学刻蚀的实验平台，克服了传统制备方法中对重力的依赖性以及横向刻蚀的不可控性，实现了多维度复杂结构表面的硅基纳米草湿法可控制备技术；采用图案化掩膜方案，结合前期光刻及湿法工艺制备图案化掩膜，阻隔掩膜部分刻蚀反应的进行，实现硅基纳米草的图案化选择性刻蚀。