一种纳米级图案化金属阵列及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种纳米级图案化金属阵列及其制备方法，涉及光学器件技术领域，该纳米级图案化金属阵列包括硅基衬底和纳米级图案化金属颗粒阵列；所述纳米级图案化金属颗粒阵列包括多个纳米级金属颗粒，且所有所述纳米级金属颗粒按照周期排列在所述硅基衬底上；从俯视角度出发，所述纳米级图案化金属颗粒阵列中的纳米级金属颗粒的形状为正方形、长方形、三角形、L形、U形中的一种或多种。本发明能够增强非线性效应，较好实现对光波的传输方向、局域场强度以及偏振形式等方面的调控。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米级图案化金属阵列及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114477067A
申请号 ：
CN202210093832.7
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张小平张梦雨王逸松李铭晖
申请人 ：
清华大学
申请人地址 ：
北京市海淀区清华大学FIT楼4区306
代理机构 ：
北京高沃律师事务所
代理人 ：
韩雪梅
优先权 ：
CN202210093832.7
主分类号 ：
B81B1/00
IPC分类号 ：
B81B1/00 B81C1/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B81
微观结构技术
B81B
微观结构的装置或系统，例如微观机械装置
B81B1/00
不具有活动或柔性元件的装置，例如微毛细管装置
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B81B 1/00
申请日 : 20220126
申请日 : 20220126
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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