基于多偏振与照明模式的超分辨显微成像方法与装置
公开
摘要
本发明公开了一种基于多偏振与照明模式的超分辨显微成像方法与装置，本发明基于多偏振光束的相干合成与大数值孔径物镜的聚焦实现了对聚焦光斑的三维偏振调控，与现有的偏振成像技术相比，多获取了1个维度的偏振信息，重构得到包含更丰富信息的超分辨图像。本发明在偏振转换的同时加入了照明模式的变换，照明模式的变换能克服光学衍射极限。本发明结合了三维偏振调控与照明模式变换，实现了超分辨显微成像。
基本信息
专利标题 ：
基于多偏振与照明模式的超分辨显微成像方法与装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609050A
申请号 ：
CN202210291866.7
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
匡翠方邱宇轩张宇森刘旭
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
刘静
优先权 ：
CN202210291866.7
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21 G01N21/01 G02B21/00 G02B21/06 G02B27/28 G02B27/58
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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