一种电容薄膜真空计
实质审查的生效
摘要

本申请涉及半导体领域,具体而言,涉及一种电容薄膜真空计,其包括:壳体,所述壳体具有一容置腔;弹性膜片,所述弹性膜片将所述容置腔分隔为测量室和参考腔;连接口,所述连接口与所述测量室连通;固定基板,所述固定基板设在所述参考腔中,所述固定基板与所述弹性膜片平行,且在靠近所述弹性膜片一侧设有固定电极;感应膜片,所述感应膜片平行地设置在所述固定电极和所述弹性膜片之间,并通过支架与所述弹性膜片连接;所述支架可在所述弹性膜片变形时带动所述感应膜片靠近或远离所述固定电极移动;从而有效提高电容薄膜真空计的精确度和灵敏度。

基本信息
专利标题 :
一种电容薄膜真空计
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114459670A
申请号 :
CN202210380028.7
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2022-04-12
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
黄星星侯少毅卫红刘乔胡强
申请人 :
季华实验室
申请人地址 :
广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
代理机构 :
佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈椅行
优先权 :
CN202210380028.7
主分类号 :
G01L21/00
IPC分类号 :
G01L21/00  G01L19/00  G01L19/14  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L21/00
真空计
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01L 21/00
申请日 : 20220412
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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