一种翻盖机构及真空腔体
授权
摘要
本实用新型提供一种翻盖机构及真空腔体，涉及化学气象沉积领域，翻盖机构用于将盖体密封设于腔体上，所述翻盖机构包括驱动件、铰链基座、铰链轴、连接臂和弹性复位组件；所述铰链基座固定于所述腔体上，且开设有滑槽，所述铰链轴可移动地设置于所述滑槽中，所述连接臂的一端固定连接于所述盖体上，另一端与所述铰链轴转动连接，所述驱动件的一端铰接于所述盖体上，另一端铰接于所述腔体上，所述铰链基座上还开设有导向孔，所述导向孔与所述滑槽连通，所述弹性复位组件设于所述铰链基座上，且一侧伸入所述导向孔中与所述铰链轴抵接。弹性复位组件能够控制铰链轴的高度，控制盖体与腔体之间的距离，避免腔体被盖体刮蹭，以确保法兰结构密封性。
基本信息
专利标题 ：
一种翻盖机构及真空腔体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220265490.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-02-09
授权号 ：
CN216738524U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
刘亮辉肖蕴章陈炳安钟国仿
申请人 ：
深圳市纳设智能装备有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路招商局光明科技园A6栋1B
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
贾耀斌
优先权 ：
CN202220265490.8
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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